苹果于2017年推出首款采用“刘海”凹槽设计的iPhone X，在基于搭载A11 Bionic 芯片的优势下，实现了采用先进感测技术的 Face ID 脸部辨识功能，被苹果高层形容为“史上经手过最複杂的科技”，关键就在于刘海凹槽区块内藏有数个感测器与元件。
而在历经沿用长达6年的“刘海”萤幕，传出今年新一代的iPhone 14 Pro高阶旗舰系列，将会率先“剪刘海”，改以椭圆型与圆形的“双挖孔”设计。
从媒体释出的渲染示意图看来，当横放iPhone手机时，萤幕顶端区块的双挖孔乍看下，宛如“惊叹号”造型，引发网友们的热议与吐槽。然而，实际上这个让人直觉联想到“惊叹号”的双挖孔造型，可是苹果再次端出自家黑科技的最新力作。
据Patently Apple报道指出，苹果近日向美国商标局提交一份申请技术专利的文件，正是与新一代iPhone“剪刘海”有关。为了要让新iPhone具备有最大化的萤幕显示面积佔比，同时又必须兼顾到前自拍镜头与用于 Face ID 脸部辨识等各式感测器元件的内部空间，对此，苹果特别使用一项名为“light-folded projector”（暂译为光摺叠投影仪）元件，使得原本刘海凹槽佔据萤幕顶端中央的区块，经改良为“双挖孔”造型后，得已进一步瘦身缩减。
苹果向美国商标局提交一份去除iPhone 刘海凹槽相关的专利技术文件，提到使用一项名为“light-folded projector”（暂译为光摺叠投影仪）元件，其运作原理的示意图。
苹果在“惊叹号”双挖孔下方内藏的“light-folded projector”（暂译为光摺叠投影仪）元件，据专利文件内容披露，其运作的原理，则是来自于采用石英玻璃材质打造的元件，能让红外线光发射器与相机镜头模组具备有更大的灵活性。简单来说，就是可以让大大小小的感测器与元件，不被侷限在特定的安装位置上，且还能让原本既有的成像模组与感测元件的尺寸，可因此更进一步地缩减体积，同时又具备有强化成像品质与提升更精准辨识度的功能与优势。
值得注意的是，上述这项正处于申请阶段的新专利技术，苹果在文件中还提到不只可运用iPhone手机上，包括MacBook笔电、VR装置与iMac等其它硬体，也都能适用。
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