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韩国三星电子在记忆体晶片制造上导入极紫外光(EUV)微影制程技术,使其记忆体晶片产能提高一倍,为20年来首次生产技术的革新。该公司也是第一家使用这项技术量产记忆体晶片的业者。
(资料图)
三星在2000年代初期导入了现在广泛使用于微影制程装置的"氩氟雷射(ArF laser)"技术,但随着积体电路变得更小且更精密,这种技术已接近其使用寿命。透过改用EUV技术,三星将能在量产高阶半导体上取得领先。
三星的国内对手SK海力士也计画明年在DRAM生产线上导入EUV技术,该公司的记忆体晶片的产量上仅次于三星。
虽然三星是首家在记忆体晶片上使用这种新制程的公司,但台积电和英特尔早已使用该技术生产中央处理器(CPU)和其他处理器。
荷兰的晶片制造设备供应商艾斯摩尔(ASML)生产一部EUV设备,就要价超过1亿美元。三星打算利用其雄厚财力,增强在技术上的优势。
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