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国内发展半导体产业的决心已经无需多言,目前国内最薄弱的领域还是芯片制造,而在这方面我们又缺少尖端的半导体生产设备,尤其是光刻技术,这是半导体芯片生产中的核心工艺。
根据刘明院士所说,我国在EUV光源、多层膜、掩膜、光刻胶、超光滑抛光技术等方面取得了一些研究进展,但是总体来说,国内的光刻技术与国外技术差距依然有15到20年,是整个集成电路中差距最大的环节。
此前我们报道过,目前荷兰ASML公司的EUV光刻机已经可以制造7nm及以下工艺,但是国内的光刻机只能做到90nm工艺级别,多数是用在低端生产线上,或者是面板生产线上,28nm及以下的工艺依然需要进口ASML的光刻机才能解决。
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